一、核心应用领域
- 电子元件制造
- 用于PCB线路板镀层剥离(锡/铅锡合金层),退镀速率达0.8-1.2μm/min,基材损耗率≤0.05μm/min,特别适用于高精度引脚处理。
- 新型低硝酸配方(含护铜剂和络合剂)可提升铜基板亮度,减少锡沉淀。
- 汽车零部件修复
- 退除发动机零件、装饰件的铜/镍/铬镀层,常温操作节能30%,且避免基材腐蚀(如钢铁基体保持金属光泽。
- PVD镀层退除专用剂可处理航空铝复合材,满足新能源车轻量化需求。
- 工业器械维护
- 机床防护罩、轴类零件的多层镀层剥离,电流密度控制3-8A/dm²,配合缓蚀剂(苯并三氮唑)保护基体。
二、技术优势与创新
三、行业痛点解决方案
- 基材腐蚀控制 酸性体系添加硫脲(0.5-1%),碱性体系用葡萄糖酸钠(2-5%),形成钝化膜隔离基材。
- 复杂结构处理 电解液渗透性优化(如添加双氧水活化剂),解决凹槽/拐角残留问题。
- 环保合规 无氰配方符合ROHS 3.0,替代传统氰化钠工艺,规避出口贸易风险。
四、发展趋势
- 智能化:电流密度自适应模型,实时调节退镀速率(如28A/dm²峰值控制)。
- 材料兼容拓展:钛合金阳极氧化膜退镀剂研发,解决医疗/航天部件再制造难题。