一、核心功能：抗蚀刻保护

1. ‌形成精密掩膜‌ 涂覆在基材表面后，通过曝光（通常为紫外线）使油墨局部固化，显影后形成稳定的抗蚀层，覆盖需保护的图形区域。未被曝光的部分则被显影液溶解，暴露出需蚀刻的区域。
2. ‌抵抗强腐蚀介质‌ 固化后的油墨可耐受强酸（如盐酸、三氯化铁）、强碱（如氢氧化钠）或其他蚀刻液的化学侵蚀，确保被覆盖区域在蚀刻过程中不受破坏。
3. ‌适应不同材质‌ 支持不锈钢、铜、铝等多种金属蚀刻保护，部分型号还可用于玻璃、塑料等非金属材料。

二、关键应用价值

1. ‌实现高精度图形转移‌ 分辨率可达0.03mm，满足电路板微细线路（线宽/间距≤0.1mm）、精密金属标牌图文蚀刻的精度需求。
2. ‌兼容电镀与蚀刻双重工艺‌ 在电路板制造中，兼具抗电镀性能，防止电镀液侵蚀非线路区域，实现线路蚀刻与电镀一体化。
3. ‌简化生产流程‌ 替代传统机械掩模（如金属凸版），只需底片曝光即可成像，显著降低小批量、个性化产品（如烫印标牌、工艺品）的成本与周期。

三、典型应用场景

四、工艺特性

• ‌显影/去膜便捷‌：多数型号可通过弱碱溶液（1-2%碳酸钠或氢氧化钠）显影，蚀刻后易用有机溶剂（如二甲苯）或碱液去除。
• ‌附着力强‌：固化后与金属基材结合紧密，避免蚀刻液渗透导致的图形缺陷。