一、核心组成与工作原理

1. ‌成分架构‌

• ‌光敏剂‌（如二环氧烷氧基蒽类化合物）：吸收紫外线引发交联反应，具备低迁移性和高感光效率；
• ‌树脂基体‌（环氧树脂/丙烯酸酯）：提供附着力与耐化学腐蚀性，适配玻璃、金属等基材；
• ‌辅助添加剂‌：流平剂优化涂布均匀性，阻聚剂防止预固化。

1. ‌工作原理‌

• ‌曝光阶段‌：紫外光（波长365-405nm）激发光敏剂，引发树脂交联形成不溶区域；
• ‌显影阶段‌：碱性或有机溶剂（如天那水）溶解未曝光部分，保留图案化保护层。

二、典型应用领域

三、工艺流程与参数控制

1. ‌标准操作流程‌

• ‌前处理‌：基材清洁（去油、抛光），确保表面粗糙度Ra<0.1μm；
• ‌涂布‌：丝网印刷或超声喷涂，膜厚控制5-20μm；
• ‌预烘烤‌：60-80℃烘烤10-20分钟，去除溶剂避免气泡；
• ‌曝光‌：紫外光能量300-600mj/cm²，图案精度误差<5μm；
• ‌显影‌：碱性溶液（pH10-12）浸泡1-3分钟，溶解未固化区域；
• ‌后固化‌：150-180℃热处理增强耐蚀性。

1. ‌关键参数‌

• ‌粘度控制‌：喷涂工艺需稀释至12-18秒（涂-4杯）；
• ‌曝光精度‌：能量不足会导致显影残留，过度则损伤图案边缘；
• ‌环境适配‌：湿度需<60%，避免未固化油墨吸潮分层。

四、技术优势与发展趋势

1. ‌性能突破‌

• ‌高分辨率‌：支持微米级图案转移，适配Mini LED封装等精密场景；
• ‌环保升级‌：水性配方降低VOC排放，显影废液可循环处理；
• ‌工艺兼容‌：与激光直写、数字喷印技术结合，实现柔性电路快速成型。

1. ‌创新方向‌

• ‌复合光敏剂‌：如初源新材专利产品，降低电镀液污染并提升良品率；
• ‌智能控制‌：集成AI算法实时监测涂布均匀性与显影效果。