酸性化学抛光防留痕添加剂，适配两酸、三酸化学抛光槽，用于改善铝合金抛光工件水流条纹、水印留痕缺陷；低泡无刺激气味，添加便捷，提升工件外观一致性。

核心优势

1、抑制抛光后水流条纹、水印、留痕不良，工件外观均匀

2、兼容两酸、三酸化抛体系 

3、添加量少，低泡沫，无刺激性气味 

4、直接投加槽液，无需设备改造

适用场景

铝合金两酸、三酸化学抛光产线，改善工件抛光后水流条纹、水印留痕缺陷。